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我国芯片领域取得新突破!
发表于2025-10-27
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来源:半导体行业观察
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作者:-
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点击量:48
摘要
近日,北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为,指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。
关键词:
光刻技术
芯片
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