我国芯片领域取得新突破!

发表于2025-10-27 |来源:半导体行业观察 |作者:- |点击量:48
摘要
近日,北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为,指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。
关键词:光刻技术芯片

版权与免责声明:

1、本网转载并注明自其他来源(非智云仪器网)的作品,目的在于信息交流,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责,不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。 2、其他媒体、网站或个人从本网转载时,必须保留本网注明的作品第一来源,并自负版权等法律责任。 3、若文章涉及作品内容、版权等问题,可联系发布者提出意见或要求下架,或者需在作品发表之日起一周内与本网联系,否则视为放弃相关权利。

| 热门排行