上海光机所在VOx薄膜微结构演变与光学性能调控方面取得进展
发表于2026-03-23
|
来源:中国科学院上海光机所
|
作者:-
|
点击量:2
摘要
上海光机所王俊团队探究了退火温度对 VOx 薄膜的调控规律,提出磁控溅射结合后退火工艺优化 VO₂(M₁) 薄膜性能,其光、热诱导调制能力大幅提升,为激光防护器件研发提供支撑。
关键词:
上海光机
光学性能
VOx 薄膜
版权与免责声明:
1、本网转载并注明自其他来源(非智云仪器网)的作品,目的在于信息交流,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责,不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。 2、其他媒体、网站或个人从本网转载时,必须保留本网注明的作品第一来源,并自负版权等法律责任。 3、若文章涉及作品内容、版权等问题,可联系发布者提出意见或要求下架,或者需在作品发表之日起一周内与本网联系,否则视为放弃相关权利。
上一篇:新型真空紫外激光器转换效率大幅提升
下一篇:行业聚焦 | 仪器行业本周要点
|
热门排行
日排行
周排行
月排行