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基恩士（Keyence）VK-X200 是一款已停产的“形状测量激光显微系统”，属于 VK-X100/X200 系列（2012年发布），采用 408 nm 激光共聚焦与聚焦变化双扫描原理，支持非接触式 3D 形貌、粗糙度及高倍彩色观测，被 VK-X3000 系列（2022 年发布）取代。
参数详情
测量光源：408 nm 半导体激光（最大输出 0.95 mW）
高度显示分辨率：0.001 μm（1 nm）
Z 轴重复精度：σ = 0.012–0.014 μm（依物镜而定，如 50× 时约 0.012 μm）
宽度重复精度：3σ ≈ 0.02 μm
最大综合放大倍率：约 24,000 倍（物镜 150× + 数字变焦）
物镜选项：通常含 10×、20×、50×、150×；扫描区域
最大约 50 mm × 50 mm（需 Wide-Scan 配件）
半导体封装（焊球、引线框架）
精密加工（刀具刃口、微结构）
材料科学（涂层、薄膜、表面粗糙度）
电子元器件（PCB 微裂纹、LED 焊盘）
生物医学（细胞支架、植入物形貌）
光学元件（透镜面形、衍射结构）——适用于镜面、透明、软质、高深宽比等难测样品，非接触、无损、可追溯